# 極紫外光（EUV）  

面對美國技術封鎖禁令，儘管中國近年在半導體領域取得一定進展，但在晶片製造能力方面，仍與英特爾、台積電存在明顯差距，甚至曾被艾司摩爾（ASML）執行長ChristopheFouquet評為「落後10到15年」。不過根據外媒報導，中國自主研發的EUV（極紫外光）設備近期取得重大突破。對此，媒體人烏凌翔指出，其它國家研發的技術發表在期刊上終究是別人的，中國自己照做一遍，就算結果不是世界第首創，也是自己掌握的技術，將來不會被境外敵對勢力掐脖子。

艾司摩爾（ASML）是台積電最重要的夥伴，主要因為這家荷蘭公司負責的極紫外光系統，能產出地球上最先進的晶片，一台極紫外光曝光機售價約為3.7億美元，是全球最貴的生產設備之一。

荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）計畫於2030年推出針對1奈米以下製程的Hyper-NA極紫外光機（EUV），然而有韓媒認為，雖然這是半導體產業邁入埃米（angstrom）時代的必要設備，要價多達7.24億美元（折合約237億台幣）以上的高昂生產成本恐怕會讓台積電、三星、英特爾都望而卻步。

中國通訊科技巨頭華為號稱要超越在中國市佔率90%的輝達A100，卻因為美國制裁因素，再加上中芯國際代工的良率極低、設備頻繁故障，導致華為的第二代AI晶片「昇騰910B」難以擴充產能。

台積電業務開發資深副總經理張曉強14日表示，台積電的A16技術製程節點不一定需要用到艾司摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NAEUV）。

香港英文報紙《南華早報》1日引述知情人士說法，報導了北方華創科技集團（NauraTechnologyGroup）正在研發光刻系統的消息，華為也申請了「自對準圖案四重化」（SAQP）的專利。雖然目前還不知道何時會有成果，但《南華早報》說，中國廠商正在嘗試各種變通方法，希望能在沒有艾司摩爾（ASML）光刻機支援的情況下自力生產五奈米晶片，突破美國對中國晶片製造能力的打壓。

路透社報導，為限縮中國的晶片產業發展，美國和荷蘭將再次聯手，要求企業出口高階晶片設備到中國應申請許可證。兩國將分別採取哪些措施？對於近期多項出口管制，業界人士怎麼看？

在與《晶片戰爭》（ChipWar）作者米勒（ChrisMiller）對談中，台積電創辦人張忠謀說：「起碼在晶片產業中，全球化和⾃由貿易已死。……毫無疑問全球化已死，⾃由貿易還沒死透透，但也差不多了。」

拜登（JoeBiden）政府成功把日本和荷蘭拉上對華晶片出口限制的戰車，這是美國外交的一個勝利。但維持這一戰略將需要做實質性的工作。

「大中華是一個很crazy的市場！」家登董事長邱銘乾說道：「中美貿易造成中國必須要發展自己供應鏈，這也是（台廠）百年難得一見的機會。」

台積電傳出將從今年底開始關閉4台極紫外光（EUV）機台以節電，美系外資認為傳聞可能為真，部分原因是預先規劃好的EUV設備升級，因此表示仍看好台積電未來3到5年競爭力，維持「加碼」評等。

台積電先進製程極紫外光（EUV）的製造商荷蘭ASMLHolding，上周公布第二季業績，營收較上年增長35%，至54億歐元（合55億美元）；第二季利潤增長36%，達到14億歐元。

英特爾上周二宣布，計劃在未來10年投入950億美元，在愛爾蘭及另外兩個地點設立晶圓廠，以提高其在歐洲的晶片製造能力。

中美科技戰，從川普開打至今，美國似乎佔了上風，其中最重要的武器之一，就是荷蘭ASML製造的極紫外光刻機（又稱：EUV光刻機），舉凡五奈米以下的製程，都需要EUV才能把積體電路投影、蝕刻在晶片上。

台積電法人說明會將於明年1月14日登場，董事長劉德音日前已搶先預告，內部並未看到客戶砍單的現象；不過，供應鏈庫存水位與調整情況仍將是市場關注焦點。